大连华邦化学有限公司于2013年由多位催化与气体纯化专家与联合成立的国家高新技术企业，注册资本3000万元。华邦化学与多家科研单位建立了科研合作，主要从事超纯气体纯化技术的研制与开发。
大连华邦化学有限公司（HPC）超纯技术团队从20世纪60年代在国内率先从事超纯气体分析和制备领域的研究，拥有催化剂、吸附剂、Getter等气体纯化材料的核心技术及研发能力，掌握核心工艺，并将应用在所生产的的纯化器之中。华邦科研团队致力于气体纯化技术研究60年，掌握催化剂、工艺、自控等气体纯化核心技术，自主研发9N氮、氢、氧、氩、氦、XCDA、氨气、二氧化碳纯化器，可为用户提供完善的 N₂、H₂、O₂、Ar、He、XCDA、NH₃、CO₂超纯气体解决方案，并成功应用于大连、上海、北京、合肥、武汉、无锡、淮安、广州等地，多条12英寸产线，以及数十条6～8英寸、TFT、LED、IGBT等产线，并可投资为客户提供超纯气体现场供应及管理、维保服务。华邦人一直坚守信誉和品质，以开发世界一流纯化器为己任，不断开拓进取，与伙伴共进。
公司理念
信誉、品质、开拓、共进
信誉： 商德唯信，利末义本。坚守信誉为华邦根本理念。
品质：精益求精，追求卓越，注重品质为华邦首要理念。
开拓：致力于高纯化学领域，开拓进取为华邦发展理念。
共进：与员工共同成长，与伙伴共进步，为华邦回馈理念。
1. 采用催化，吸附、Getter等技术联用，保证气体纯化指标。
PH8系列——氮气纯化器
▲ PH8- N₂Purifier
单项杂质脱除均<1ppb
设备简介：
气体通过吸附工序，深度脱除气体中的O₂、H₂O、CO₂、CO、H₂、等杂质。吸附柱吸附饱和后可加热再生、反复使用。多柱交替吸附、再生、可实现对气体的连续纯化。
典型应用：
> 半导体、LED/激光、太阳能光伏行业：
器件制备工艺中外延、扩散、MOCVD、离子注入、等离子干刻、光刻、退火、搭接、烧结等工序设备所需的N₂、H₂、Ar、NH₃等气体进行纯化。
> 光纤行业：对保护氮、氦气进行终端纯化。
> 气体行业：对气源气体进行纯化。
> 冷轧行业：对保护氮气进行纯化。
> 化工行业：对氮、氢、气/液相烃类脱O₂、H₂O纯化。
PH9——氮气纯化器
▲ PH9- N₂Purifier
单项杂质脱除均<1ppb
设备简介：
> 气体首先通过高温催化氧化工序，将气体中的CH₄（包括H₂、CO）与O₂反应转化为H₂O和CO₂。
> 气体然后通过多柱吸附工序深度脱除气体中的O₂、H₂O、CO₂等杂质。吸附柱附饱和后可通氢加热再生，反复使用。多柱交替吸附、再生，可实现对气体的连续纯化。
典型应用：
> 半导体、LED、激光、太阳能光伏行业：
器件制备工艺中外延、扩散、MOCVD、离子注入等离子干刻、光刻、退火、搭接、烧结等工序中设备所需的超纯氮气终端纯化。
> 光纤行业：保护氮、氦气的终端纯化。
> 气体行业：对气源气体进行纯化，零点气的制备，6N高压钢瓶气的生产。
PH7——氢气纯化器
▲ PH7- H₂Purifier
单项杂质脱除均<1ppb
设备简介：
> PH7-H:通过吸附工序，脱除气体中的O₂、H₂O、CO₂等杂质，通过吸气柱脱除N₂、CH₄。
> PH7-A: 气体通过吸附工序，深度脱除气体中的O₂、H₂O、CO₂、CO等杂质。吸附柱吸附饱和后可加热再生、反复使用。多柱交替吸附、再生、可实现对气体的连续纯化。
典型应用：
> 用于半导体、LED/激光、太阳能光伏行业：
在器件制备工艺中晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等工艺所需超纯氢气、氩气体终端纯化。
> 气体行业：对气源气体进行纯化、零点气的制备，6N高压钢瓶气的生产，超纯氪、氙、氦气生产。
PH6系列——氧气纯化器
▲ PH6-O₂Purifier
单项杂质脱除均<1ppb
设备简介：
气体首先通过高温催化氧化工序，将气体中的CH₄（包括H₂、CO）与O₂反应转化为H₂O和CO₂。气体然后通过多柱吸附工序深度脱除气体中的H₂O、CO₂等杂质。吸附柱附饱和后可通氧加热再生，反复使用。多柱交替吸附、再生，可实现对气体的连续纯化。
典型应用：
> 半导体、LED、激光、太阳能光伏行业：
器件制备工艺中热氧化、扩散、MOCVD、等离子干刻等工序所需的超纯O₂终端纯化。
> 光纤行业：光导纤维所需O₂的纯化。
> 气体行业：对气源气体进行纯化，标气、零点气的制备。
PH5系列——氩气、氦气纯化器
▲ PH5- Ar/He Purifier
单项杂质脱除均<1ppb
设备简介：
> PH5-H:通过吸附工序，脱除气体中的O₂、H₂O、CO₂等杂质，通过吸气柱脱除N₂、CH₄。
> PH5-G: 气体通过高温状态下的吸气柱，可深度吸收脱除气体中的O₂、H₂O、CO₂、CO、H₂、CH₄、N₂等杂质。吸气柱吸附饱和后，整体更换。
> PH5-A: 气体通过吸附工序，深度脱除气体中的O₂、H₂O、CO₂、CO、H₂、等杂质。吸附柱吸附饱和后可加热再生、反复使用。多柱交替吸附、再生、可实现对气体的连续纯化。
典型应用：
> 用于半导体、LED/激光、太阳能光伏行业：
在器件制备工艺中晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等工艺所需超纯氢气、氩气体终端纯化。
> 气体行业：对气源气体进行纯化、零点气的制备，6N高压钢瓶气的生产，超纯氪、氙、氦气生产。
PH21系列——氨气纯化器
▲ PH21-NH₃ Purifier
单项杂质脱除均<1ppb
应用领域：
> 纯化用于第三代半导体、LED应用的氨气。
工艺介绍：
> PH21氨气纯化器通过吸附工序，采用双吸附容器，深度脱除工艺气体中的O₂、H₂O、CO₂、NMHC，纯化再生模式交替进行，提供对工艺气的连续纯化。
> PH21系列氨气纯化系统通过现场原位再生和先进的技术，以高可靠性。
> 低成本及高性能，有效的脱除NH₃中的污染杂质，满足客户现场需求。
PH22系列——XCDA纯化器
▲ PH22-XCDA Purifier
单项杂质脱除均<1ppb
应用领域:
> 纯化用于半导体应用的XCDA
工艺介绍：
> 采用HPC特有纯化材料，通过吸附工序，深度脱除气体中的H₂O、CO₂、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、总有机碳TOC等杂质。多个吸附器交替吸附、再生，实现对原料气体的连续纯化。
> PH22系列独立气体纯化系统通过现场原位再生和先进的技术，以高可靠性、低成本及高性能，有效的脱除CDA中的污染杂质，满足客户现场需求。
PH32/ 33系列——二氧化碳纯化器
▲ PH32/33-CO₂Purifier
单项杂质脱除均<1ppb
应用领域：
> 纯化用于半导体应用的二氧化碳
工艺介绍：
> PH32系列采用HPC特有纯化材料，通过吸附工序，深度脱除气体中的。上表中杂质CH₄、O₂、H₂O、H₂、CO、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、可冷凝有机物Corg、不凝有机物Ncorg等杂质。多个吸附器交替吸附、再生，实现对原料气体的连续纯化。
> PH32系列独立气体纯化系统通过现场原位再生和先进的技术，以高可靠性、低成本及高性能，有效的脱除CO₂中的污染杂质，满足客户现场需求.
> PH33系列气体首先通过高温催化氧化工序，将气体中的CH₄、还原性杂质与O₂反应转化为H₂O和CO₂；
> 气体通过多柱吸附工序深度脱除气体中的CH₄、O₂、H₂O、H₂、CO、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、可冷凝有机物Corg、不凝有机物Ncorg等杂质；
> 吸附柱饱和后可通还原性气体加热再生，反复使用；
> 多柱交替吸附、再生，可实现对气体的连续纯化。
Q9系列——POU纯化器
适用气体：N₂、Ar、H₂、He、O₂、XCDA、CH₄、C₂H₄、Cl₂、NH₃
脱除深度<1ppb
流量：0.1～100L/min；20～3000Nm³/h
典型应用：
> 电子行业生产线及研发过程：气体纯化。
> 化工研究:烃类、N₂、H₂纯化。
> 分析：色谱载气纯化、测氧仪、露点仪的零点较对。
> 焊接：保护氩气纯化
大连华邦化学有限公司
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本司将参加2022年6月29日-7月1日在重庆国际博览中心举办的第四届全球半导体产业（重庆）博览会，此次展会以“集智创芯、共塑未来”为主题，展示面积达25000㎡，参展企业预计达350家，全球半导体、集成电路、芯片及研发设计等企业参展，集中展示新产品、新技术，邀请18000名专业观众参观，同期还将举办“第四届未来半导体产业发展大会”论坛活动，组委会将尽全力打造最专业的上下游交流合作平台。
大连华邦化学有限公司诚邀您参加本次展会，届时共同分享半导体产业创新产品、技术及解决方案，充分彰显企业高端品牌形象！
