先普是经国家认证的高新技术企业和上海市专精特新企业，2004年由归国留美博士江晓松在上海闵行创办，公司在充分掌握国家先进气体纯化核心技术的基础上，通过不断的研究创新，已获得六十余项专利证书，自主开发了十几个系列上百种产品，纯度可提供9N、7N两种级别，其中压力范围从1.0MPa的常压到24MPa的高压，流量范围从几百毫升每分钟到上万立方米每小时。先普以实用的产品，专业的服务，合理的价格为客户提供高性价比的气体纯化解决方案。
先普9NS系列产品是专门为半导体行业所设计的9N高性能纯化系统，用于纯化惰性气体，气体流量从10Nm3/h到20000Nm3/h，纯化后气体中H2O、O2等分项杂质最低可达到ppb级别。
先普9NP系列高性能气体纯化器采用的是常温催化剂技术，通过化学反应和物理吸附相结合的办法在常温下将工艺气体中的H2O, O2, CO, CO2, H2, NMHC等杂质去除到1ppb以下，并且在内表面电化学抛光的316L不锈钢罐体中内置了过滤精度为0.003微米的颗粒过滤器。
先普9NG系列高性能气体纯化器由气路和电控两部分所组成。气路部分主要由吸气剂(Getter)纯化单元和一系列阀门、气体管路和散热器所组成。纯化器可配置过滤精度为0.003微米的颗粒过滤器，采用化学反应的方法在高温下将工艺气体中的H2O, O2, CO, CO2, CH4, NMHC, N2等杂质去除到1ppb以下。电控部分负责控制系统的温度和安全报警等过程，确保纯化器能够持续安全稳定地运行。
先普P9系列高性能气体纯化器采用的是常温催化剂技术，通过化学反应和物理吸附相结合的办法在常温下将工艺气体中的H2O, O2, CO, CO2, H2, NMHC等杂质去除到1ppb以下，并且在316L不锈钢罐体中内置了过滤精度为0.003um的颗粒过滤器。
先普以多年来为客户提供气体纯化与过滤解决方案的经验，应国内半导体产业国产化需求在2022年推出0.003微米高精度气体过滤器，覆盖流量范围从1slm到150Nm3/h，适用于晶圆生产，芯片制造，半导体，MEMS，光电，平板显示器等行业以及高纯工艺气体输送和气柜、阀门箱组等。
本司将参加2023年5月10日-12日在重庆国际博览中心举办的第五届全球半导体产业（重庆）博览会，此次展会以“集智创芯、共塑未来”为主题，展示面积达25000㎡，参展企业预计达350家，聚焦半导体产业核心技术及发展趋势，拟设“IC设计、集成电路制造、封装测试、半导体材料、设备制造、电子元器件、AI+5G、智慧电源、综合展”等主题专区，专业呈现半导体产业最新技术成果，检索更多智能应用领域创新案例，搭建专业高端的产业生态交流合作平台，邀请20000名专业观众参观。同期还将举办“第五届未来半导体产业发展大会”论坛活动，组委会将尽全力打造最专业的上下游交流合作平台。
上海先普气体技术有限公司诚邀您参加本次博览会，届时共同分享半导体产业创新产品、技术及解决方案，充分彰显企业高端品牌形象！
